Tapume de vide cible en titane Détails du processus:
A. Principes de la technologie du revêtement et de la pulvérisation
Le principe de base de la technologie de revêtement de pulvérisation
Le revêtement de pulvérisation est une technique qui forme un film mince en bombardant la surface d'un matériau cible avec des ions, ce qui fait que les atomes du matériau cible se détachent et déposent à la surface du substrat. Cette méthode est devenue un moyen important de revêtement industriel en raison de ses avantages tels que l'uniformité élevée de la couche de film et la large gamme d'applications. Les cibles en titane jouent un rôle de base dans le processus de pulvérisation en raison de leurs propriétés physiques et chimiques uniques.
2. Le rôle des cibles en titane dans la pulvérisation du magnétron
La pulvérisation du magnétron utilise un champ magnétique pour limiter les électrons pour former un plasma à haute densité, améliorant ainsi l'efficacité du bombardement des ions. L'avantage de cette technologie réside dans sa capacité à appliquer des revêtements à des températures relativement basses, ce qui le rend très adapté au traitement des substrats sensibles tels que les plastiques et le verre. Au cours de ce processus, les atomes de titane fournis par la cible en titane forment un film dense sur la surface du substrat, qui est utilisé pour les revêtements anti-réflexits ou les revêtements résistants à la corrosion.
3. Le rôle des cibles en titane dans la pulvérisation du courant direct
La pulvérisation DC convient aux cibles métalliques à haute conductivité à haute conductivité, telles que les cibles en titane. Son principe de travail est relativement simple, mais la pureté du matériau cible est un facteur clé. Les cibles en titane de haute pureté peuvent réduire les problèmes de décharge de l'ARC pendant le processus de pulvérisation, améliorant ainsi la qualité du revêtement.
4. Le rôle des cibles en titane dans la pulvérisation de la radiofréquence
La pulvérisation de radiofréquence utilise un courant alternatif pour empêcher l'accumulation de charges sur la surface cible et convient au traitement des cibles isolantes telles que les composés en titane (comme Tio₂). Le rôle principal des cibles en titane dans la pulvérisation RF est de fournir des sources ioniques chimiquement inertes et très stables, qui sont largement utilisées dans la fabrication de revêtements optiques et de films fonctionnels en céramique.
Baoji Reliab Metal Materials Co., Ltd
Tél: +86-917-8883215
Mobile: +8613092900605
+8613092913521
E-mail:garychen3215@hotmail.com
